證券時報網(wǎng)
李志強
2025-10-27 14:35
CPO概念股，漲勢兇猛！
最近幾個交易日，隨著貿(mào)易緊張情緒的緩解，A股科技股持續(xù)上行，芯片、光刻機、CPO等方向領(lǐng)漲。今日（10月27日）盤中，上述板塊再度拉升，CPO指數(shù)一度漲超4.70%，光刻機板塊一度漲超5%。
截至中午收盤，萬得CPO指數(shù)漲幅仍超過4%。其中，新易盛、生益科技、中際旭創(chuàng)、東田微、源杰科技、生益電子等相關(guān)概念股在盤中均創(chuàng)出歷史新高。光刻機板塊漲幅接近3%，萬潤股份漲停，晶瑞電材漲超15%。
從整體A股市場來看，滬指震蕩走強，再創(chuàng)十年新高，逼近4000點大關(guān)。滬深兩市半日成交額1.57萬億，半日放量超3300億。截至午間收盤，滬指漲1.04%，深成指漲1.26%，創(chuàng)業(yè)板指漲1.54%。午后開盤后，A股三大指數(shù)繼續(xù)保持強勢。
CPO概念股集體大漲
繼上周五大漲5%后，CPO指數(shù)今日再度拉升，盤中最高漲幅一度達(dá)到4.71%。個股方面，東田微一度觸及20%漲停，仕佳光子一度漲超15%，生益電子一度漲超13%，新易盛一度漲超10%，生益科技漲近10%，景旺電子、華工科技、東山精密、天孚通信、德明利、工業(yè)富聯(lián)等紛紛跟漲。
當(dāng)天盤中，近10只CPO概念股的股價創(chuàng)出歷史新高，包括新易盛、生益科技、中際旭創(chuàng)、東田微、源杰科技、生益電子、德明利、環(huán)旭電子等。
消息面上，10月24日，中共中央舉行新聞發(fā)布會，介紹和解讀黨的二十屆四中全會精神。會上，科技部黨組書記、部長陰和俊表示，中國政府高度重視人工智能，持續(xù)營造良好的創(chuàng)新生態(tài)，推動人工智能加快發(fā)展。
陰和俊表示，下一步，將認(rèn)真貫徹落實《中共中央關(guān)于制定國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十五個五年規(guī)劃的建議》要求，持續(xù)加強“十五五”人工智能頂層設(shè)計和體系化部署。繼續(xù)加強基礎(chǔ)研究和關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)，聚力開發(fā)新的模型算法、高端算力芯片，不斷夯實人工智能發(fā)展的技術(shù)根基。深入實施“人工智能+”行動，推動人工智能與科技創(chuàng)新、產(chǎn)業(yè)發(fā)展、消費提質(zhì)、民生保障等深度融合。
華安證券近日發(fā)布的研報指出，四中全會強調(diào)全面增強科技自主創(chuàng)新能力，可重點把握科技新一輪成長產(chǎn)業(yè)景氣的投資機會。本輪產(chǎn)業(yè)周期以AI算力基建為代表，具體可關(guān)注泛TMT、算力（CPO/PCB/液冷/光纖）等。開源證券也表示，隨著“十五五”規(guī)劃建議提出科技自主可控成為重點工作目標(biāo)，國產(chǎn)算力板塊有望成為市場主線。同時持續(xù)看好AI浪潮下的存儲周期和消費電子的創(chuàng)新周期。
另外，全球算力高景氣度延續(xù)。10月23日，Anthropic與谷歌正式宣布價值百億美元的云服務(wù)合作協(xié)議，預(yù)計帶來百萬級谷歌定制TPU芯片，并在2026年帶來預(yù)計1GW的AI算力。有分析稱，這一事件凸顯出全球AI算力需求正呈現(xiàn)指數(shù)級增長，開發(fā)和訓(xùn)練尖端AI系統(tǒng)的成本急劇飆升，也表明云服務(wù)提供商的自研芯片正成為英偉達(dá)之外不可忽視的力量。從全球AI算力產(chǎn)業(yè)鏈角度看，此次合作進一步強化了“多元算力供應(yīng)”趨勢。
開源證券認(rèn)為，上述合作有望提升Claude模型性能的同時，強化Anthropic和谷歌的合作關(guān)系，也凸顯TPU芯片的性價比和泛用性。海外各AI模型廠商加強與上下游合作，AI軍備競賽持續(xù)，有望持續(xù)帶動算力產(chǎn)業(yè)鏈需求。
光刻機板塊也大幅異動
光刻機概念股今日盤中也大幅拉升，板塊指數(shù)漲幅一度超過5%。截至中午收盤，萬得光刻機指數(shù)漲幅仍接近3%。個股方面，萬潤股份漲停，晶瑞電材漲超15%，錦華新材漲近10%，佳先股份、迦南科技漲超8%，南大光電、富創(chuàng)精密等漲超6%，江化微漲幅也接近6%。
消息面上，國家標(biāo)準(zhǔn)委網(wǎng)站顯示，我國首個EUV光刻膠標(biāo)準(zhǔn)——《極紫外（EUV）光刻膠測試方法》作為擬立項標(biāo)準(zhǔn)，10月23日開始公示，截止時間為11月22日。標(biāo)準(zhǔn)的起草單位包括上海大學(xué)、張江國家實驗室、上海華力集成電路制造有限公司、上海微電子裝備（集團）股份有限公司。
另據(jù)科技日報報道，近日，北京大學(xué)彭海琳教授團隊及其合作者，通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，分辨率優(yōu)于5納米。這一發(fā)現(xiàn)不僅揭示了光刻膠分子在溶液中的微觀物理化學(xué)行為，更指導(dǎo)開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案，有效清除了12英寸晶圓圖案表面的光刻膠殘留，為提升光刻精度與良率開辟新路徑。
彭海琳表示，光刻是芯片制造中關(guān)鍵的步驟之一，通俗理解，光刻就是給半導(dǎo)體晶圓（比如硅片）“印電路”，核心是用超精密“投影儀”把設(shè)計好的電路圖案，縮小后印在硅片的特殊薄膜上，再通過沖洗定型。光刻是芯片制造的核心技術(shù)之一，更是微納加工領(lǐng)域“皇冠上的明珠”。
顯影液則在電路圖案形成過程中發(fā)揮著重要作用。在光刻膠顯影過程中，光刻膠的曝光區(qū)域會選擇性地溶解在顯影液的液膜中。液膜中光刻膠分子的吸附與纏結(jié)行為，是影響晶圓表面圖案缺陷形成的關(guān)鍵因素，進而可直接影響芯片性能和良率。
有券商指出，光刻膠作為半導(dǎo)體、印制電路板、平板顯示等行業(yè)的基礎(chǔ)材料，其技術(shù)進步可以促進相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同發(fā)展，上游材料供應(yīng)商、設(shè)備制造商，中游光刻膠生產(chǎn)企業(yè)，以及下游光刻膠產(chǎn)品應(yīng)用企業(yè)都能從中受益。
排版：羅曉霞
校對：蘇煥文
